產品概述

Qdm.1：用於失效分析的旗艦量子鑽石顯微鏡

qDM.1 是對電路中的電氣活動進行成像的強大工具，可以無損地隔離短路和開路故障。

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規格

橫向解析度 (xy)

低至 1 μm（視支架而定）

深度解析度 (z)

低至 0.5 μm（與感測器的距離約 10%）

視野

最大 3 mm x 3 mm，自動縫合最大 5 cm x 5 cm

本底噪音

150 納特（直流電）

缺陷型別

包裝和模具：短褲（範圍廣）、漏水、開口

探測能力

開路和短路

靈敏度

<10 μt/√Hz

典型測量時間

5-10 分鐘

要求

電壓/功率

230 V（單相）/16 A

機械穩定性

帶懸浮液的光學臺，穩定的樣品區域

操作溫度

15-40 °C

環境

環境條件（室溫和壓力）

下載資訊表

QD 範圍

原生 QD 軟體，專為故障分析工程師設計。

我們獨特的軟體介面透過專為半導體失效分析和計量團隊設計的直觀、強大的使用者體驗使先進的量子感測觸手可及。

自動校準和直觀控制

直觀測量、無縫導航、靈活控制和智慧自校準，適合所有級別的使用者。

互動式資料和註釋

同時訪問所有資料元件，或
個別地。自由繪製、註釋、標記資料，並以各種資料格式匯出。

疊加視覺化

將分析資料疊加在不同的相鄰資料上，例如光學和紅外影象以及熱點資料。

電流密度重建

利用機器學習增強的 3D 互動式視覺化和橫截面檢視，將您的磁場資料轉換為電活動，以獲得更深入、切實可行的見解。

大面積拼接

5 釐米 x 5 釐米的行程範圍，無需更換樣品即可拼接更大的影象。

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產品和服務

精確的故障檢測

在实验室

缺陷定位的单芯片测试
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在单芯片层面对缺陷进行高分辨率、无损定位，用于研发和故障分析。

廠內

缺陷计量的全晶圆测试

‍直接在晶圆厂环境中对缺陷进行全面的晶圆级定位和表征。

直列式

用于实时过程控制的自动晶圆映射
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高通量晶圆映射，用于实时监控和优化生产流程。
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